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硅片清洗废水处理案例|硅片清洗废水处理方法

该厂为84英寸晶圆生产线一起的超注射用水平台,没天生产含硅废水净化处理方法150吨。废水净化处理方法中虽无血本属,但硅浓度高易积垢,且内阻率需达到18MΩ·cm可以循环。原来净化处理工学院艺不能足够新发布的《電子化学工业水危害物污染物标准规范》(GB39731-2020)非常污染物标准值。 焦化废水组分基本特征 具体的有害物质 :胶体溶液硅(200-300mg/L)、小粒硅(粒度0.1-1μm) 特种特殊要求 :TOC<10μg/L,硼浓度<5μg/L 水体特征 :低电阻率(<50μS/cm)但硅氧化物特征缜密 处置流程图流程图 不断创新采用了"梯级膜离心分离+电去阴离子"组合构成制作工艺: 微滤预治疗 :1μm陶瓷图片膜阻拦大颗粒肥料硅,通量维系80LMH 阴离子交流光敏树脂 :D201大孔硅橡胶考虑性降解硅酸氧分子 二次元RO软件系统 :第1段回报率60%,2.段选择高脱硼膜电子器件 EDI电去阴离子 :电流量密度计算公式2A/m²,坚持我们要除的残留物正离子 分光光度计杀菌消毒 :254nm紫外光线分子量40mJ/cm² 技術薄弱环节 设计特用阻硅剂(设计胺类塑料物),廷迟膜生态破坏过渡期3倍 EDI组件转型升级流道结构设计,硅快速清理率不断提升至99.8% 网络硅解析仪(在线测量规模0.1-500μg/L)推动正确掌握 运作成果 经其次方在线检测: 总硅从280mg/L降下来0.05mg/L 硼水平从8μg/L低于0.3μg/L 控制系统环保再生资源回成品率从原40%提拔至68% 膜进行更换生长期延迟至5年,年启用制造费变低35%

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