半导体芯片加工废水怎么处理|半导体芯片加工废水如何处理
品牌经验
该光电器件行业地处长角形沿海地区,重点生育8厘米和12厘米晶圆,日废气摆放废需水量约2000吨。原因生育制作工艺僵化,废水里面的内含好几种难化学降解有机化学物和天价属阴阳离子,过去的治疗办法易于实现渐趋严格执行的废气摆放标准化。
污水因素及来源于
废气首要种类于4个节点:晶圆切割工作器废气含带一大批硅粉和切割工作器液存留;化学式机器打磨抛光废气饱含橡胶胶体部分硅和精磨小粒;刻蚀清洁废气含带氟化物、铜正离子等血本属;光刻工艺设备废气则含带光阻剂等有机化学影响物。饮用水质特色是COD高(800-1500mg/L)、氟化物酸度高(200-400mg/L)、飘浮物多且含带氢化物发生器血本属。
治理方法工作流程
选择"有机化学预工作+生化模式工作+宽度工作"的搭配加工过程:
调理池义均水质量出水量
混凝土沉淀自己我们要除透明桌面物和电解质溶液化学物质
药剂学积累法帮着净化处理氟化物,加药系统钙盐型成氟化钙积累
蛋白质水解酸性反应池上升焦化废水可生化学性
接受氧化的池分解有机物危害物
活力炭物理吸附塔来纵深治疗
膜分离出来系统保证水流水体质量可靠
共性含铜废气多个设定阴离子交易软件系统,回收处理有价值观的金屬铜。
结果英文特效
建设项目竣工后运营固定,喷水COD<50mg/L,氟化物浓硫酸浓硫酸浓度<5mg/L,铜阴阳离子浓硫酸浓硫酸浓度<0.3mg/L,那项指标英文均不同于国家地区《光电化工业水影响物废气要求》(GB 39731-2020)。每一年的可提高COD废气约300吨,氟化物废气约50吨,收购铜不锈钢约2吨,变现了室内环境成本收益与成本成本收益的共利。